科研級暗場金相顯微鏡WYJ-4XBD采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng)與多功能、模塊化的設計理念，帶有偏光裝置、暗場裝置，可實現(xiàn)偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現(xiàn)了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作很方便舒適，空間很廣闊。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學、礦物學、精密工程學、電子學、半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)等觀察研究的理想儀器。總放大倍數(shù)：50-600X
◆產(chǎn)品特點：
1、采用了很為先進的無限遠光路設計，提供了出色的光學系統(tǒng)。
2、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰。
4、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能。
5、整機采用了防霉處理，保護了鏡頭，延長了儀器的使用壽命。
6、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
◆典型應用：
1、電子工業(yè)制造業(yè)對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗。2、觀察材料表面的某些特性。3、分析金屬、礦相內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織。
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